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    首頁 > 產品展示 > 鍍鉻添加劑HEEC系列
    鍍硬鉻添加劑
    詳細介紹

    鍍硬鉻添加劑(專利產品:ZL201310046888.8)

    一、簡介

    HEEC系列鍍鉻添加劑屬最新一代鍍鉻添加劑,是有機復合添加劑。

    適合于鍍硬鉻、微裂紋鉻,也可用于裝飾鉻等。

    工藝可應用于紡機、活塞環、凹印制版、減震器、結晶器、瓦楞輥、液壓支柱、軍工產品、日用五金等方面。此添加劑都可在不銹鋼、鑄鐵、鋁合金、銅等不同基體上獲得良好的鍍層。本公司添加劑種類:HEEC-I、HEEC-II、HEECIII、HEEC-V。

    二、幾種添加劑的主要區別

    HEEC-I HEEC-II HEEC-III

    開缸量 6~10 mL 10~15 mL 15~25 mL

    最佳開缸量 8mL 12 mL 20 mL

    對陽極影響 對純鉛、鉛銻和鉛錫都有不同程度的腐蝕。 對純鉛、鉛銻有腐蝕;對鉛錫(含8%錫)不腐蝕。 對純鉛、鉛銻和鉛錫
    都不腐蝕。

    (可以根據不同廠家的需要來選擇相應添加劑,目前建議使用HEEC-III)

    三、工藝特點

    1、光亮電流密度范圍寬,鍍層細致光亮,深鍍能力好。不含氟無稀土。

    2、可按客戶要求控制 鍍層光亮度,可發白亮、青蘭亮和烏黑亮。

    3、HEEC工藝鍍液穩定,抗雜性強,易于操作維護。

    4、鍍層硬度高,硬度可達750HV~1280HV。

    5、鍍層呈微裂紋,微裂紋數可達400~1000條/厘米。

    6、陰極電流效率高,可達22%~27%,可節電約一半,工作效率提高。

    7、不含氟無稀土,對陽極和鍍件不鍍部位不會產生腐蝕。

    四、工藝規范

    鉻酐(CrO3) 250(150~300)g/L

    硫酸(H2SO4) 2.7(2.0~3.5)g/L

    HEEC-Ⅲ(開缸) 20 (15~25) mL /L

    電流密度 60(30~80)A/dm2

    溫度 60(60±2)℃

    陽極陰極面積比 不小于 2∶1

    五、補充

    方法1:每加五十公斤鉻酐同時加HEEC-Ⅲ補缸劑1.6L或2公斤。

    方法2:按消耗量補加,消耗量為3-6 mL/KAh。

    方法3:沉積每平方分米每絲鍍層消耗添加劑是:8~10mL。

    六、鍍液配制

    1、加入鍍液總體積70%的純水,加熱,將鉻酐溶解。2、補加純水至所需體積。3、取樣分析鍍液中硫酸的含量,并調整至工藝規定的濃度范圍。4、加入HEEC-Ⅲ添加劑并攪拌均勻。5、安裝鉻霧回收裝備更好。在沒安裝情況下,可適當加入鉻霧抑劑。6、升溫。7、電解4~6小時后、試鍍。8、正式電鍍生產。

    七、說明

    1、沉積速度及電流效率:鍍鉻電流密度高,電流效率高,所以鍍鉻如條件允許,應盡可能用大電流。

    沉積速度可參考下表:

    電流密度

    (A/ dm2) … 20 30 40 50 60 70 80 …

    傳統工藝沉積

    速度(μm/h) … 7-10 12-15 18-25 23-28 28-35 35-40 40-45 …

    HEEC工藝沉積

    速度(μm/h) … 15-20 20-32 35-45 45-58 50-70 65-80 85-95 …

    2、雜質:使用此加添加劑總量不能超過20g/L。

    3、陽極:陽極建議使用鉛錫合金(含錫約8%),鉛銻合金、鉛陽極也可。

    4、鍍槽:鍍槽建議使用襯塑鐵槽。

    七、轉缸

    由普通鍍鉻液轉換為HEEC-Ⅲ快速鍍鉻液特別容易,鍍液雜質不超標,不含氟化物,可直接按HEEC-Ⅲ工藝加添加劑生產。如果以前加過稀土或氟化物必須進過詳細的化驗,進行鍍液調整后方可轉換。

    八、鍍液分析方法

    1、鉻酐的測定:用滴定法測定,若鍍液雜質較少,也可用比重法測定。

    2、硫酸的測定:用離心法測定,硫酸根快速測定儀,詳見使用說明書。

    3、三價鉻的測定:用目視比色法測定,儀器使用詳見說明書。

    4、雜質(Fe3+、Cu2+、CL—、NO3—等)的測定:需要建立專用鍍鉻分析實驗室。

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